不得不承认美国对我国实施的芯片制裁确实给我国企业带来的重大影响，就拿华为来说，自从去年9月份美国开始断供高端芯片，华为就陷入了严重的芯片困境，智能手机出货量还因此受到影响，世界排名不断下降，甚至直接跌出前五。
但是美国的举措在给我国企业带来重大损失的同时，也让这些企业纷纷意识到摆脱对外国技术的依赖，早日实现半导体国产化的重要性。突破中国芯，打破美国的芯片封锁是目前我国半导体行业迫切需要解决的大问题。
然而，实现芯片自主这条路并不是那么容易走的，更何况我国还缺乏用于生产高端芯片的EUV光刻机。值得一提的是，虽然这条路很难走，但国产企业从未想过放弃，好在每一次坚持都得到了回报。
近日，有媒体报道称国内半导体巨头之一中微半导体已成功研制出3nm刻蚀机，并且完成了原型机的设计、制造、测试以及初步的工艺开发和评估，更引人关注的是该刻蚀机已经进入量产阶段了。
此次中微半导体在刻蚀机方面实现重大突破对于推动我国半导体行业继续向前发展具有重大意义，尤其是在芯片被美国封锁的情况下。虽然刻蚀机比不上光刻机那样先进，但同样作为大规模集成电路制造过程中不可缺少的半导体设备，刻蚀机的存在也很重要，而且它直接决定了芯片的工艺制程，所以我国刻蚀机取得重大突破意味着我国的芯片自主化进程又向前迈进了一步。
如今中微半导体已经渐渐成为我国刻蚀机领域的领头羊，只是其走到这个位置的过程是比较艰辛的，不仅要攻克各种技术难题，还要时刻面对来自美国方面的压力。
可能很多人都不知道，其实中微半导体也遭到过美国企业的打压，而且力度并不比华为小。据了解，近几年，包括美国应用材料、泛林研发、维科等在内的多家半导体设备公司为了进一步遏制中微半导体的发展，曾多次向其发起商业机密和专利侵权的诉讼，好在中微半导体早就做足了准备，通过在世界范围内申请了1200多项专利以更好地保护自己的合法权益。因此，面对美国半导体设备公司发起的诉讼，中微半导体每次都能胜诉。
据中微掌门人尹志尧介绍，中微半导体已经成为国内被美国起诉最多的半导体公司，不过每一次中微都取得了胜利或是会和对方达成和解。
中微半导体原本在全球刻蚀机领域就具有一定的地位，此次突破3nm制程更是大大提高了它的地位。看到中微半导体和其他国产半导体企业的发展，完全可以对我国能最终实现芯片国产化充满信心，这条路走得虽然艰辛，却始终是光明的！
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